可加工22纳米芯片!我国“超分辨光刻装备项目”通过验收

  • 时间:
  • 浏览:0
  • 来源:3分时时彩官网_3分时时彩下注平台_3分时时彩游戏平台

IT之家11月29日消息 据新华社29日消息,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉,该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

众所周知,我国在光刻机等领域长期落后,此次通过验收的“表棘层层等离子体超分辨光刻装备”拥有全版自主知识产权,打破了国外在高端光刻装备领域的垄断,也为纳米光学加工提供了全新的除理途径。

该装备也为超材料/超表棘层层、第三代光学器件、广义芯片等领域提供了制造工具。